نظرة عامة على المنتج

يُعد فرن الترسيب الكيميائي للبخار (CVD) معدات مهمة لإعداد مواد مركبة من الكربون والكربون وإتمام عملية ترسيب الطور الغازي CVD.

المعلمات التقنية

1) درجة حرارة التصميم: 1250 درجة مئوية / 1650 درجة مئوية / 1800 درجة مئوية / 2200 درجة مئوية

2) درجة الحرارة المستخدمة بشكل شائع: 900 ~ 1200 درجة مئوية

3) درجة الفراغ: <50 باسكال

4) معدل ارتفاع الضغط: 6.67 باسكال / ساعة (أو 150 باسكال / 24 ساعة) للفرن الفارغ في الحالة الباردة

5) طريقة التسخين: تسخين مقاومة الجرافيت أو تسخين الحث

6) وسط الغلاف الجوي: النيتروجين، البروبيلين، الأسيتيلين، الهيدروجين

7) طريقة التحكم في الغاز: التحكم بمقياس تدفق الكتلة

8) نوع الفرن: هيكل مربع، دائري، رأسي أو أفقي (تصميم غير قياسي)

9) وسائط أخرى: ماء تبريد غلاف الفرن

تطبيقات الصناعة

تم استخدام المنتجات على نطاق واسع في مناسبات المعالجة الحرارية مثل الصهر والتسخين والإطفاء والتشغيل الحراري عالي الحرارة واللحام ومعالجة التركيب الساخن وتنقية أشباه الموصلات؛ خدمة البترول والغاز الطبيعي، والطاقة الحرارية والطاقة النووية، وصب المعادن، وصهر الحديد والفولاذ، والسيارات، والآلات الهندسية، وتوليد الطاقة الريحية/الهيدروليكية، والسكك الحديدية، والفضاء، والطباعة ثلاثية الأبعاد للمعادن، والمعادن الثمينة، وكربيد الأسمنت، وبطاريات الأفلام الشمسية الرقيقة وغيرها من الصناعات.